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新 聞 動 態(tài)
NEWS
涂膠預處理HMDS系統(tǒng) HMDS處理涂底系統(tǒng)應用于光刻工藝
涂膠預處理(HMDS)系統(tǒng)涂底為了增強晶圓表面的黏附性,通常使用六甲基二硅亞胺(HMDS)進行處理。 將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經系統(tǒng)加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯(lián)劑的作用。
涂膠預處理HMDS系統(tǒng) HMDS處理涂底系統(tǒng)應工藝性能
HMDS藥液泄漏報警提示系統(tǒng)
HMDS低液位提示
工藝數(shù)據(jù)記錄功能
程序互鎖定保護等功能
產品兼容:2-12寸晶圓及碎片,多個cassette,(可定制)
溫度范圍:RT-200℃
真空度:≤1torr
操作方式:人機界面,一鍵運行
儲液瓶:HMDS儲液瓶
真空泵:無油渦旋真空泵
數(shù)據(jù)處理:多個工藝方案,可修改并保存,使用數(shù)據(jù)可記錄
功能:去水烘烤、HMDS增粘劑涂布、蒸鍍固化、廢氣排放工藝基于一體。
更多用途,半導體制造/納米壓印光電面板處理/陶瓷新材料/納米多孔陶瓷材料/碳纖維材料/碳化硅材料等新型復合材料。
